Установки вакуумного напыления (Магнетронное наспыление средней частоты)

Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Установки вакуумного напыления <small>(Магнетронное наспыление средней частоты)</small>
Запрос цены
Компания BITE обладает хорошей репутацией в сфере оборудования для нанесения вакуумных покрытий. Основной рабочий принцип магнетронного напыления средней частоты довольно прост. В нем используется магнитное поле и импульсный источник питания для повышения степени ионизации и коэффициента осаждения. Мишень является источником материала для осаждения на субстрате. Ионизация мишени является процессом, при котором атомы материала мишени подвергаются воздействию для возбуждения и образования направленного потока на поверхность субстрата, где они осаждаются и формируют тонкую пленку покрытия.

Импульсное магнетронное напыление средней частоты является процессом конденсации из газовой фазы, в котором комбинируются технологии импульсной мощности, магнетронного напыления и дугового испарения. Данная технология обеспечивает улучшенные характеристики покрытия и позволяет наносить поверхностное напыление металлов, металлических компаундов и многослойных пленок на различные поверхности из металлических и неметаллических материалов.

Опираясь на многолетний опыт в исследованиях технологий вакуумного покрытия, наша команда технических специалистов использует источники дуговых разрядов для получения свободных ионов и несбалансированное магнитное поле для удержания плазмы в области вокруг мишени, при этом, не затрагивая мишень.

Передовые компьютерные системы обеспечивают полное управление оборудования. Полученное покрытие отличается высокой плотностью, сильными механическими связями с субстратом, а также равномерной толщиной по всей поверхности нанесения.

Применение установок вакуумного напыления
Данное оборудование используется для нанесения покрытий из металла, металлических компаундов и других материалов на наручные часы корпуса мобильных телефонов, металлические изделия, санитарно-гигиенические изделия, кухонную утварь, а также на износоустойчивые инструменты, пресс-формы и фильеры.

Материалы для нанесения покрытий
Данное оборудование является многофункциональным и может использовать широкий спектр материалов для нанесения покрытий, включая Tin, TiCN, CrN, TiALN, TiCrN, ZrN, TiNC и т.д.

Возможные цвета покрытия
При помощи установок вакуумного покрытия BITE можно создавать поверхностные покрытия различных цветов, включая черный, радужный (пять цветов), розовое золото и так далее.

Характеристики установки вакуумного напыления
1. Технология магнетронного напыления работает при использовании магнитного поля, которое распространяется от материала мишени до пограничной области поверхности субстрата. Возбужденные атомы материала мишени под действием магнитной силы создают направленный поток по направлению к субстрату. Использование этой технологии позволяет достичь высокой степени ионизации материала мишени, обеспечивая гладкое, прочное и красивое поверхностное покрытие.
2. Процесс катодно-дугового осаждения генерирует стабильную плазму при помощи оптимизации катода, который работает при значениях тока 30 А. Слой покрытия характеризуется сильными связями с поверхностью субстрата за счет молекулярной диффузии.

Технические спецификации установок вакуумного напыления
Модель LKBT-900 LKBT-1100 LKBT-1250 LKBT-1350
Размер вакуумной камеры ф900×1000 ф1100×1200 ф1250×1100 ф1350×1100
Скорость вакуумного насоса 1×105 Па~3×10-3 Па≤20мин
Максимальная степень вакуума ≤1×10-3 Па
Вспомогательное оборудование 2 x -15/2 x -70/ ZJP -300/ KT -600

Опционально
F -400/3600 молекулярный насос
2 x -15/2 x -70/ ZJP -300/ KT -630

Опционально
F -400/3600 молекулярный насос
2 x -15/2 x -70/ ZJP -300/ KT -630

Опционально F -400/3600 молекулярный насос
2 x -15/2 x -70/ ZJP -300/ KT -630

Опционально
F -400/3600 молекулярный насос
Трансмиссия Планетарная передача (количество валов: от 8 до 16, по требованию клиента)
Способ нагрева Нагревающие трубки установлены по бокам вакуумной камеры
Ионная бомбардировка Импульсное напряжение: 0-1000В (поставляется с преобразователем напряжения)
Подача газа Автоматический управляющий клапан обеспечивает стабильную подачу газа в вакуумную камеру.
Количество катодно-дуговых разрядов 6 6-8 8-10 8-12
Магнитно - управляемые мишени 1-2
( плоских или цилиндрических )
2-4
( плоских или цилиндрических )
2-8
( плоских или цилиндрических )
2-8
( плоских или цилиндрических )
Режимы работы Полуавтоматический ПЛК или полностью автоматический ПЛК компьютер
Газообразная среда Ar , N2, O2, C2H2
Общая мощность 40 кВт 45-60 кВт 60-80 кВт 70-90 кВт
Давление сжатого воздуха 0.4~0.8 МПа
Система водяного охлаждения Давление/температура: ≤25 ° C /≥0.25МПа (временно отсутствует в продаже)

Образцы вакуумного покрытия

Схожая продукция
Обратная связь
Другие продукты
Новинки
Другие продукты
видео
Отправить сообщение
Отправить сообщение